SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 20ml Eesti

SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 20ml on õrnatoimeline puhastusvahend, mille koostis toetab naha loomulikku pH-taset ja mille kergelt happeline pH on 5. See tagab ühilduvuse naha loomuliku pH-tasakaaluga. Kookosest saadud pindaktiivsed ained tagavad õrna, kuid tõhusa puhastusefekti, mis tagab, et mustus ja mustus eemaldatakse tõhusalt, kuid nahk ei ärritu. Kaasaegse elu väljakutsetele, nagu kokkupuude mikrotolmuga, aitab selle puhastusvõime samuti vastu seista. Ülipeene naatriumbikarbonaatpulbri lisamine adsorbeerib ja eemaldab ebapuhtused pooridest. Lisaks kasutab see 33% Madagaskarilt pärit Centella asiatica ekstrakti kasulikku mõju. See ekstrakt on tuntud oma rahustavate ja niisutavate omaduste poolest ning tagab, et nahk jääb rahulikuks ja terveks. Lisaks sellele annab ekstraktile niisutavat mõju hüaluroonhappe, kakao ja Hiina kuldkangaste ekstraktide lisamine.

Tekstuuri poolest loob see puhastusvahend pehme ja õrna vahu. Ja pärast puhastamist ei tunne nahk end ketendavana ega kuivana. Selle asemel on niisutav lõpptulemus, mis jätab naha pehmeks, elastseks ja värskendavaks. Kokkuvõttes aitab see puhastusvahend kaasa naha tasakaalule, puhastades seda õrnalt, pakkudes samal ajal rahustavat ja niisutavat toimet. Seda suurust on hea igale poole kaasa võtta.

Peamised koostisosad

* Care to Beauty uuendab perioodiliselt toodete koostisosade loetelusid. Siiski võivad kaubamärgid koostisainete loetelu muuta ilma hoiatuseta, seega lugege enne kasutamist toote pakendil olevat koostisainete loetelu.

• Centella asiatica ekstrakt Madagaskarilt pakub rahustavat, niisutavat ja antioksüdantset toimet. Samuti aitab see kaasa naha taastumisele;
• Hüaluroonhape on võimeline meelitama ja säilitama vett, toimides niisutajana ja aidates nahal taastada oma veetasakaalu. Seetõttu jätab see naha pehmeks ja täidlaseks.