Linic Men Anti-Dandruff Deep Clean Shampoo 225ml Danmark

Linic Men Anti-Dandruff Deep Clean Shampoo 225ml tilbyder en hårplejeløsning til mænd med fokus på at fjerne skæl og bakterier og samtidig give en dybderensende virkning på hovedbunden. En af de vigtigste ingredienser i denne shampoo er aktivt kul, som er kendt for sine rensende egenskaber. Denne ingrediens renser effektivt porerne i dybden og fjerner fedt og urenheder. Det er et godt valg for dem, der dagligt udsættes for miljøfaktorer som snavs, forurening og rester, som kan bidrage til hovedbundsproblemer, herunder skæl. Desuden hjælper mynten med at opfriske hovedbunden, hvilket bidrager til den dybderensende fornemmelse.

Ud over sin dybderensende evne er denne shampoo en god allieret i kampen mod skæl. Den indeholder Triple Anti-Dandruff Technology, en blanding af komponenter, der giver pleje til hovedbunden. Således forbedrer guar BB18 fordelingen af hovedbundens beskyttende barriere. Niacinamid forbedrer hovedbundens naturlige forsvarsmolekyler. Formlen indeholder også aminosyrer, som er vigtige for at holde hovedbunden hydreret og sund. Alle disse hjælper med at opretholde et sundt miljø i hovedbunden, hvilket gør huden mere modstandsdygtig over for skæl og irritation. Desuden giver tilsætningen af taurin energi til hårsækkene, hvilket bidrager til hårets generelle vitalitet og styrke. Konklusionen er, at denne shampoo er et godt valg for mænd, der ønsker en grundig renseoplevelse sammen med effektiv skælkontrol.

Vigtigste ingredienser

* Care to Beauty opdaterer med jævne mellemrum ingredienslisterne for produkterne. Ingredienslisten kan dog blive ændret af mærkerne uden varsel, så læs venligst ingredienslisten på dit produkts emballage, før du bruger det.

• Piroctone Olamine hjælper med at regulere talgproduktionen og har også antimikrobielle egenskaber, der hjælper med at kontrollere den svamp, der kan bidrage til skæl;
• Taurin er en aminosyre, der hjælper med at give hårsækkene energi;
• Aktivt kul hjælper med at adsorbere urenheder fra håret.